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為了遏制中國發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè) 美國脅迫ASML對華禁售產(chǎn)品

發(fā)布時(shí)間:2022-07-08 10:43:00來(lái)源:網(wǎng)易

  為了遏制中國發(fā)展芯片產(chǎn)業(yè),美國開(kāi)始脅迫全球光刻機巨頭阿斯麥公司(ASML)對華禁售產(chǎn)品。

  鈦媒體 App 7 月 7 日消息,據環(huán)球時(shí)報引述媒體報道稱(chēng),美國官員正在游說(shuō)荷蘭當局,在禁止向中國出售最先進(jìn)的極紫外線(xiàn)光刻機(EUV)基礎上,進(jìn)一步將禁售范圍擴大到上一代技術(shù)深紫外線(xiàn)浸沒(méi)式(ArFi)DUV 光刻機的出口。

  報道稱(chēng),由于無(wú)法獲得荷蘭政府的出口許可,ASML 已經(jīng)無(wú)法向中國出口其最先進(jìn)、每臺售價(jià)約 1.6 億歐元的 EUV 光刻機。而美國此次針對的這些舊款 DUV 光刻機,可生產(chǎn) 7nm 及以上制程工藝芯片,是制造汽車(chē)、手機、計算機乃至機器人所需的某些非先進(jìn)芯片的最常用設備,在目前全球芯片短缺之際必不可少。如果美國脅迫成功,中芯國際和華虹半導體等中國芯片制造商可能會(huì )因此受到沉重打擊。

  對此,7 月 6 日例行記者會(huì )上,中國外交部發(fā)言人趙立堅表示,這是美方濫用國家力量,倚仗技術(shù)霸權搞“脅迫外交”的又一例證,這也是典型的技術(shù)恐怖主義。在當前全球化背景下,對別國搞技術(shù)封鎖、技術(shù)脫鉤,這只會(huì )讓其他國家更加警醒,在技術(shù)上一味依靠美國行不通,也會(huì )促使各國加快實(shí)現科技自主自立自強。

  受此消息影響,ASML 的美國存托憑證(ADR)跌幅高達 8.3%,為 2020 年 3 月以來(lái)最大盤(pán)中跌幅。但與此同時(shí),限制進(jìn)口光刻機利好國產(chǎn)替代,周三相關(guān)半導體設備股出現大漲,拓荊科技 (Piotech)、沈陽(yáng)芯源 (Kingsemi)漲幅超 10%,中微公司、北方華創(chuàng )帶領(lǐng)滬深 300 大漲,科創(chuàng ) 50 (STAR50)指數則上漲了 2.3%。

  截止發(fā)稿前,由于市場(chǎng)傳出美國考慮對中國半導體征稅,7 月 7 日開(kāi)盤(pán),A股半導體板塊普跌,瑞芯微、大港股份、盛美上海跌5%,東微半導、易天股份、博通集成跌4%,斯達半導、中晶科技跌3%。


光刻機巨頭已成為半個(gè)美國公司

  今年 4 月 20 日,荷蘭 ASML 公司發(fā)布財報,2022 年第一季度光刻機凈銷(xiāo)售額達 35.34 億歐元。其中,中國大陸市場(chǎng)的營(yíng)收占比達到 34%,超過(guò) 12 億歐元。

  而這么亮眼的業(yè)績(jì),主要歸功于 EUV 光刻機的貢獻。公司 CFO Roger Dassen 此前接受采訪(fǎng),當被問(wèn)及美國半導體禁令對 ASML 業(yè)務(wù)有什么影響時(shí),他表示,盡管美國對華禁售 EUV 光刻機,但 ASML 可以直接向中國出口 DUV 光刻機,無(wú)需美國的授權。

  眾所周知,目前主流的光刻機主要有兩種:一種是極紫外線(xiàn) EUV 光刻機,用于 7nm 及以下的芯片光刻;另外一種是 DUV 光刻機,稱(chēng)之為深紫外線(xiàn)光刻機,主要用于 10-130nm 光刻機,只有 ASML 能生產(chǎn)。

  DUV 光刻機又有兩大路線(xiàn),其中一種就是 ASML 為代表的浸潤式光刻機,以水為介質(zhì),采用 193nm 波長(cháng)的光線(xiàn),在水中折射后,變成 132nm,而這種設備一次曝光可以生產(chǎn) 45-28nm 的芯片,價(jià)格比 EUV 便宜一半。

  盡管 DUV 光刻機不是最先進(jìn)的,但在多重曝光的情況下,最高也能做到 10nm 制程,由于無(wú)需獲得美國出口許可證,相關(guān)產(chǎn)品一直正常給長(cháng)江存儲,上海華虹等廠(chǎng)商供貨。

  所以,一旦美國推動(dòng) ASML 禁止對中國企業(yè)出售 DUV 光刻機,意味著(zhù)芯片代工廠(chǎng)的擴產(chǎn)之下無(wú)法獲得設備,包括部分車(chē)規級芯片及消費電子芯片,都將面臨受制于人的命運。同時(shí),這也意味著(zhù)美國對中國芯片產(chǎn)業(yè)的全面圍堵已經(jīng)展開(kāi)。

  實(shí)際上,企業(yè)都是以盈利為目的。媒體分析稱(chēng),如果 ASML 被禁止對華出口 DUV,其收入可能會(huì )萎縮5%-10%。

  那么,為什么 ASML 這樣一家光刻機巨頭企業(yè),減少要屈服于美國的管制?根據中國科學(xué)院 ICAC,背后主要有三個(gè)原因:

  1、美國在 DUV、EUV 技術(shù)方面滲入 ASML。1997 年,ASML 加入英特爾和美國政府牽頭成立的 EUV LLC 聯(lián)盟當中。該聯(lián)盟匯聚了美國頂尖的研究資源和芯片巨頭,包括 IBM、AMD、摩托羅拉等,集中數百位頂尖科學(xué)家,共同研究 EUV 光刻技術(shù)。隨后在 2007 年起,ASML 陸續收購美國 Brion、Cymer、HMI 等公司,增強了在光刻、光源、電子束檢測等方面的技術(shù)儲備,從而能夠開(kāi)展 EUV 技術(shù)攻克。

  2、美國通過(guò) ASML 的上市公司身份入股。隨著(zhù)其在 DUV 時(shí)代取得成功,英特爾入股 ASML 疊加并購加速,2012 年,英特爾、三星、臺積電共同買(mǎi)入 ASML 23% 的股權,獲得了 ASML EUV 光刻機的優(yōu)先供貨權,成為了利益共同體。目前 ASML 的前三大股東均來(lái)自美國,合計掌握 ASML 近 30% 的股權,美國加速實(shí)現對 ASML 的資本和技術(shù)雙控制。

  3、ASML 的 EUV 設備零部件受控于美國。截止 2020 年末,ASML 的 EUV 中有 90% 零部件來(lái)自進(jìn)口,而且根據 ASML 加入 EUV LLC 的承諾,美國零部件需占比 55% 以上,并接受定期審查。

  所以這就是美國為什么能讓荷蘭對華禁售 DUV、EUV 光刻機的主要原因——ASML 的 EUV 光刻機的實(shí)際控制方是美國而非荷蘭。因此,ASML 也被行業(yè)稱(chēng)為“半個(gè)美國公司”。

  實(shí)際上,美國要求荷蘭 ASML 禁止出售光刻機給中國芯片制造企業(yè),始于前任總統特朗普時(shí)期。

  2018 年開(kāi)始,美國就對荷蘭進(jìn)行游說(shuō),并展開(kāi)強大攻勢,以阻撓荷蘭將芯片制造技術(shù)出售給中國。時(shí)任美國總統副國家安全事務(wù)助理還對荷蘭警告稱(chēng),如果沒(méi)有美國的零部件,ASML 的設備就無(wú)法運轉,而美國白宮有權限制這些零部件向荷蘭出口。不久后,荷蘭就決定 ASML 的出口許可證不予續期,而之前計劃好向中芯國際出口的一臺價(jià)值 1.5 億美元的光刻機,至今也沒(méi)有發(fā)貨。

  今年 5 月底至 6 月初,美國商務(wù)部副部長(cháng)唐·格雷夫斯在訪(fǎng)問(wèn)荷蘭和比利時(shí)期間討論供應鏈問(wèn)題時(shí)提出禁止對中國企業(yè)銷(xiāo)售 DUV 光刻機的要求。其間,唐·格雷夫斯還到訪(fǎng)了 ASML 位于荷蘭總部并會(huì )見(jiàn)了公司 CEO 彼得·溫寧克。

  不過(guò),此前溫寧克曾表明過(guò)態(tài)度:反對禁止向中國出口 DUV 光刻機。

  報道還稱(chēng),美國也在努力向日本施壓,要求 ASML 對手——日本尼康等企業(yè)停止向中國芯片制造企業(yè)交付光刻技術(shù)。

  針對上述消息,美國商務(wù)部與荷蘭外交部均表示拒絕發(fā)表任何評論,ASML 和尼康兩家公司也都沒(méi)有做出實(shí)質(zhì)性的回應。

  根據 ASML 計劃,2022 年該公司有望生產(chǎn) 55 臺 EUV 光刻設備,到 2023 年達到每年超過(guò) 60 臺,有望供應給英特爾、三星、臺積電等企業(yè)。

  國產(chǎn)替代影響幾何?

  2021 年,全球半導體行業(yè)總銷(xiāo)售額達 5500 億美元。其中,作為全球最大、發(fā)展最快的芯片半導體銷(xiāo)售市場(chǎng),彭博數據顯示,過(guò)去 4 個(gè)季度,每個(gè)季度增長(cháng)最快的 20 家芯片產(chǎn)業(yè)公司中,平均有 19 家來(lái)自中國大陸。

  在現代中美科技競爭背景下,“國產(chǎn)替代”已成為中國半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的象征。

  “中國半導體股背后的邏輯,一直是國產(chǎn)替代進(jìn)口的設備和芯片,”杭州希言資產(chǎn)管理基金經(jīng)理石軍波接受媒體采訪(fǎng)時(shí)表示,即使技術(shù)可能不那么先進(jìn),國內半導體企業(yè)依然在被美國迫使下發(fā)展,從而獲得更大的市場(chǎng)份額。

  光刻機被稱(chēng)作“半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,與航空發(fā)動(dòng)機并列,是人類(lèi)工業(yè)難度極限。而想要保證光刻機良好運轉,每個(gè)環(huán)節的成功率都要高達 99.99%,這是工程學(xué)上的巨大挑戰。

  溫寧克曾表示,如果想打破 ASML 等國外企業(yè)制定的技術(shù)規則和壟斷優(yōu)勢,中國需要集體參與精密零部件的供應開(kāi)發(fā)。他認為中國目前不太可能獨立掌握頂級光刻技術(shù)。

  對于國產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈,首先關(guān)注華為的投資布局。天眼查數據顯示,繼 2021 年 6 月,華為旗下的哈勃投資公司入股中科院微電子所控股、國內第一的 193nm ArF 準分子激光器光源系統企業(yè)“北京科益虹源”之后,今年 4 月,華為哈勃再度投資光源相關(guān)產(chǎn)業(yè),入股光電模塊零部件公司“微源光子(深圳)科技”。

  其次是企業(yè)的業(yè)績(jì)。7 月 5 日,國內刻蝕設備(光刻下游,溶解光刻膠部分金屬)廠(chǎng)商中微公司(688012.SH)發(fā)布 2022 年中報預告,公司預計今年二季度營(yíng)收 19.7 億元,同比增長(cháng) 47.1%。其中新增訂單下,營(yíng)收同比增長(cháng) 62% 至 30.6 億元。中微公司董事長(cháng)尹志堯透露,公司研發(fā)的等離子刻蝕設備已經(jīng)進(jìn)入客戶(hù) 5nm 生產(chǎn)線(xiàn)。該公司預計上半年扣非歸母凈利潤大增 630%。

  最后是未來(lái)國產(chǎn)光刻行業(yè)的發(fā)展評估。方正證券發(fā)布研報稱(chēng),光刻機作為前道工藝七大設備之首(光刻機、刻蝕機、鍍膜設備、量測設備、清洗機、離子注入機、其他設備),價(jià)值含量極大,技術(shù)要求極高,在制造設備投資額中單項占比高達 23%。而目前,全球前道光刻機被 ASML、尼康、佳能所壟斷,當前實(shí)現光刻機的國產(chǎn)替代勢在必行,具有重大戰略意義。

  “國產(chǎn)光刻機應從如下四個(gè)方面尋求突破,包括產(chǎn)業(yè)分工、科研投入、技術(shù)突破以及人才積累。”方正證券在報告中稱(chēng),對于國內關(guān)注產(chǎn)業(yè)鏈,主要關(guān)注以下兩部分:

  一是關(guān)注光刻機核心組件,包括負責整體集成的上海微電子、負責光源系統的科益虹源,負責物鏡系統的國望光學(xué),負責曝光光學(xué)系統的國科精密,負責雙工作臺的華卓精科,負責浸沒(méi)系統的啟爾機電等;二是關(guān)注光刻配套設施發(fā)展,包括光刻膠,光刻氣體,光掩模版,光刻機缺陷檢測設備,涂膠顯影設備等。
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